1、環(huán)保技術：等離子體作用過程是氣-固相干式反應,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環(huán)境無污染。

 

2、廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料都能很好地處理；

 

3、溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。

 

4、功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10-1000A），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能；5、低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。

 

6、全過程可控工藝：所有參數可由電腦設置和數據記錄，進行質量控制。

 

7、處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復雜，部件或紡織品，均可處理。

 

二、等離子清洗機功能

 

1、表面清洗：清洗金屬表面油脂、油污、以及肉眼看不到油脂顆粒等有機物及氧化層。

 

2、表面刻蝕：通過處理氣體的作用，被刻蝕物會變成氣相排出。

 

3、表面改性：以聚四氟乙烯（PTFE）為例，在其未做處理的情況下，不能印刷或粘合。使用等離子處理可以使表面大化，同時在表面形成一個活性層，這樣PTFE就能進行粘合、印刷操作。

 

4、表面活化：主要用于清理塑料、玻璃、陶瓷與聚乙烯(PE)、聚丙烯（PP）、聚四氟（PTFE）、聚甲醛（POM）、聚苯硫醚(PPS)等無極性材料的。

 

5、表面涂鍍：在等離子涂鍍中，兩種氣體同時進入反應艙，氣體在等離子環(huán)境下會聚合。這種應用比活化和清洗要求嚴格得多。典型的應用是形成保護膜，用于燃料容器，防刮表層，類似聚四氟（PTFE）材質的涂鍍，防水鍍層等。（分解聚合物）。